RTP快速退火炉

NANO-MASTER的NRT-4000型独立式RTP快速褪火炉，可支持硅片、GaN、GaAs等晶圆的快速煺火，具有精确的温度/时间控制能力。该RTP系统可支持单片自动Load Lock，或者带25片Cassette的单片工艺，可兼容处理4”和6”晶圆片。也可以有一次处理6-7片6”晶圆的批处理版本。占地面积仅为26”x44”,不锈钢立柜。
 
用户可选择温度的升降时间，温度和脉冲数，并且这些工艺参数实时显示在触摸监控屏幕中。全自动工艺控制和完整的安全联锁功能。系统支持不限数量的工艺菜单，每套工艺菜单可根据客户需要支持1到100个工艺工序（步骤）。
 
该RTP系统可选择不同的最高温度（最高可可加热至1100℃或者1400℃），温度脉冲可高达200C/s，SiC涂覆的石墨烯样品台，带石英支架，三顶针升降样品台(Auto L/UL)。提供高均匀性的温度控制，整个晶圆全局的温度均匀性优于+/-1%，控温精度优于+/-2℃。

• 特点
• 选配
• 应用