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Plasma Source等离子源

根据需求,我们可提供各种各样的等离子源满足客户的应用,从空心阴极等离子源到ICP等离子源等。用户需要考虑离子源跟工艺腔体之间的集成设计。

  • 特点
  • 选配
  • 应用
淋浴头等离子源SH-1000:
** 淋浴头等离子源
** 气体通过射频平板进入
** 二级平板用于引入其它气体到等离子体中
** 水冷
** 最大功率600瓦
** 可在0.02Torr到8Torr的范围内工作
** 8” 有效区域
** ISO 250法兰
中空阴极13.56MHz射频等离子源:
** 支持很广范围的功率和真空下工作
** 高密度高活性高均匀性等离子体(1011 cm-3)
** 兼容活性气体和惰性气体
** 至支持连续波和脉冲功率下工作
** 几乎没有任何污染
隙缝天线2.45吉赫兹微波等离子源:
** 高浓度等离子体
** 压力范围在10-5毫巴到大气压
** 兼容化学反应和非化学反应气体
** Low contamination 低污染
** Electron cyclotron resonance)
** 等幅波和脉冲电源
感应耦合等离子源ICP-P200:
** 200毫米直径的平面线圈
** 扩展功率范围在3-2000瓦
** 低能量扩散
** 高浓度高活性等离子体
** 低污染
** 等幅波和脉冲电源